所述模頭高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括兩個(gè)伺服電機(jī)，可以分別調(diào)節(jié)模頭兩端的高度；所述距離測(cè)量?jī)x為兩個(gè)，分別設(shè)置在涂布模頭或涂布平臺(tái)的兩側(cè)。采用上述優(yōu)選的方案，可以對(duì)兩端高度分別調(diào)節(jié)，便于調(diào)整薄膜厚度的均勻度。所述距離測(cè)量?jī)x設(shè)置在涂布平臺(tái)的兩側(cè)，倒置在所述涂布模頭的下方。采用上述優(yōu)選的方案，將距離測(cè)量?jī)x倒置在涂布模頭下方，測(cè)量由下至上，可以節(jié)省空間。所述距離測(cè)量?jī)x經(jīng)固定支架設(shè)置在所述涂布模頭的側(cè)方。采用上述優(yōu)選的方案，將距離測(cè)量?jī)x固定在涂布模頭的側(cè)方，測(cè)量由上至下，該固定結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)潔，便于利用大理石基準(zhǔn)平臺(tái)實(shí)施校正操作。設(shè)定一預(yù)設(shè)對(duì)比差值，計(jì)算涂布模頭兩端實(shí)時(shí)高度差值，當(dāng)超出預(yù)設(shè)對(duì)比差值時(shí)，實(shí)施涂布模頭高度向預(yù)設(shè)高度范圍的調(diào)整。

設(shè)置模頭高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)5，用以調(diào)整涂布模頭1的高度位置；在涂布模頭1或涂布平臺(tái)2上設(shè)置距離測(cè)量?jī)x，用以測(cè)量涂布模頭1與涂布平臺(tái)2之間的距離；根據(jù)應(yīng)用環(huán)境設(shè)定一預(yù)設(shè)高度值、一預(yù)設(shè)偏差值；距離測(cè)量?jī)x測(cè)定涂布模頭1與涂布平臺(tái)2的距離；將預(yù)設(shè)高度值與距離進(jìn)行比較，并根據(jù)預(yù)設(shè)高度值通過(guò)模頭高度調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)5調(diào)整涂布模頭1的高度；距離測(cè)量?jī)x實(shí)時(shí)測(cè)定涂布模頭1與涂布平臺(tái)2的距離；根據(jù)預(yù)設(shè)高度值及預(yù)設(shè)偏差值獲得高度值范圍，當(dāng)實(shí)時(shí)測(cè)定的距離偏移高度值范圍時(shí)，實(shí)施涂布模頭1高度向預(yù)設(shè)高度范圍的閉環(huán)調(diào)整。采用上述技術(shù)方案的有益效果是：在涂布過(guò)程中，直接利用距離測(cè)量?jī)x測(cè)定涂布模頭到涂布平面的距離，并通過(guò)閉環(huán)控制完成涂布模頭的實(shí)時(shí)調(diào)整，這樣可以大大減少因?yàn)橥坎寄ｎ^高度位置變化而造成涂布薄膜的影響，以獲得厚度均勻一致的高質(zhì)量薄膜。